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中微公司发明专利获中国专利奖银奖

日期:2025-01-12  来源:南昌新闻网  分享到:  

  南昌新闻网讯 近日,中微半导体设备(上海)股份有限公司和南昌中微半导体设备有限公司共同拥有的发明专利“一种化学气相沉积装置及其清洁方法”(专利号:ZL201510218357.1)荣获第二十五届中国专利奖银奖。至此,中微公司已荣获中国专利奖2项金奖、1项银奖、3项优秀奖。 

  本次获奖的发明专利是中微公司MOCVD设备产品的基础核心专利。MOCVD设备是宽禁带半导体各种微观器件制造的最关键设备,具有广阔的应用前景。中微公司的MOCVD设备在业界享有盛誉,其氮化镓基LED生产用MOCVD设备的市场占有率在过去几年内跃居全球第一,市场占有率超过70%。

  这项获奖专利通过一种构思新颖的设计,巧妙解决了MOCVD设备领域一直困扰的排气不均匀、工艺良率低、维护频繁和生产效率低等业界难题。这一突破性的技术,为客户提供了更可靠、更高效的生产解决方案,有力推动了MOCVD设备的技术进步,促进了LED照明与显示产业的新发展。这一创新成果进一步巩固了中微公司在MOCVD设备市场的领先地位。

  “中微公司连续斩获中国专利奖,彰显了中微公司在研发创新和知识产权管理方面的领先地位。”中微公司董事长兼总经理尹志尧博士表示,“创新是中微公司发展的核心驱动力。中微公司将始终秉承技术创新、产品差异化和知识产权保护的产品开发原则,强化研发投入,不断突破技术瓶颈,为客户提供更具创新性和卓越品质的产品和服务,为全球半导体产业的发展贡献更大的力量。”

  中国专利奖是我国专利领域的最高荣誉,由国家知识产权局和世界知识产权组织联合主办,旨在鼓励和表彰专利权人和发明人对技术创新及经济社会发展所作出的突出贡献。(洪观新闻记者 高学斌)

【 编辑:何珍燕 】

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